光刻机在技术上主要缺少以下几个方面：
核心技术缺失：
光刻机技术的关键在于光源、物镜和精密运动系统等核心部件。目前，中国在这些核心部件的研发上仍处于初级阶段，与国际先进水平存在较大差距。
人才短缺：
光刻机技术涉及多个学科领域，如光学、电子、机械等。目前，中国在这些领域的高端人才储备相对不足，制约了光刻机技术的发展。
产业链不完善：
光刻机技术的发展需要产业链的协同配合。目前，中国在光刻胶、光掩模等关键材料领域仍存在较大短板，制约了光刻机技术的进步。
高精度制造和组装技术：
光刻机需要数万个零部件，并且需要精准的组装技术将这些零部件组装起来。在核心部件如光学镜头、光学光源和工件台的制造上，中国仍需进一步提高技术水平。
控制系统和软件：
设计和开发光刻机的控制系统和运行软件，以实现自动化操作、参数调节和故障检测等功能，也是中国光刻机技术需要加强的方面。
环境控制技术：
光刻机对工作环境的要求非常严格，包括温度控制、震动控制等，这些技术的不足也会影响光刻机的性能和稳定性。
系统集成和测试技术：
进行光刻机的系统集成和测试，确保各个组件和子系统的协调运行和性能优化，也是中国光刻机技术需要提升的一个环节。
综上所述，中国在光刻机技术上主要缺少核心技术、高端人才、关键材料、高精度制造和组装技术、控制系统和软件、环境控制技术以及系统集成和测试技术。要提升中国光刻机的整体技术水平，需要在这些方面进行全面的加强和改进。