扩散技术是指 将杂质引入到半导体中，使之在半导体的特定区域中具有某种导电类型和一定电阻率的方法。这一过程在半导体制造中尤为重要，例如在硅平面器件的制备中，整个器件的结构和性能基本上由扩散工艺确定。扩散技术的基本原理是分子从高浓度区域向低浓度区域移动，通过高温等条件使掺杂物在硅晶体中移动，从而形成特定的电特性。根据不同的应用需求和工艺步骤，扩散技术还可以进一步细分为原位扩散源等不同的类型。