腐蚀曝光技术是一种用于在金属表面形成所需图案的工艺，主要应用于蚀刻过程中。其原理如下：
图形转移：
首先，需要蚀刻的产品图形通过光绘或光刻的方式转移到两张完全一致的胶片菲林上，或者转移到两张完全一致的玻璃菲林上。
对准与放置：
将这两张菲林片对准，并将已经涂布感光膜的材料置于菲林中间。对准的准确性直接影响最终产品的图形精准度。
曝光过程：
曝光时，紫外光照射在菲林上。菲林黑色部分的金属材料不感光，而白色部分的金属材料感光。感光处的油墨或干膜发生聚合反应。
显影：
经过曝光后，将材料置于显影机中。感光处的油墨或干膜不会在显影液中被融化，而未感光的油墨或干膜会融化并脱墨。这样，需要蚀刻的图像就会在金属材料上成形。
光引发剂的作用：
在曝光过程中，光引发剂吸收光能分解成游离基，游离基再引发不聚合单体进行聚合交联反应，反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。
通过以上步骤，腐蚀曝光技术能够将设计好的图形精确地转移到金属材料上，为后续的蚀刻过程提供准确的图形模板。