尹志尧（Gerald Zheyao Yin），1944年出生的半导体设备领域先驱，被誉为“中国刻蚀机之父”，以下是其核心信息的综合介绍：
一、教育背景
本科阶段：1962年毕业于中国科技大学化学物理系，是北京大学第二位自费留学生。
博士阶段：1980年赴美就读于加州大学洛杉矶分校（UCLA），获物理化学博士学位，期间参与等离子刻蚀机研发。
二、职业经历
硅谷经历 - 1984年加入英特尔研发中心，参与等离子刻蚀机技术研究。
- 后任泛林半导体（LAM Research）资深工程师及经理，主导“彩虹号”刻蚀机开发，推动公司成为全球领先刻蚀机制造商。
回国创业与成就
- 2004年60岁归国，创立中微半导体公司（AMEC），专注薄膜制造与刻蚀设备研发。
- 仅用3年时间实现第一代等离子刻蚀机自主研发，打破国外技术垄断，使中微成为国内半导体设备领域的龙头企业。
- 技术成果：拥有200+项国际专利和86项美国专利，获上海市政府白玉兰纪念奖、浦东经济人物十强等荣誉。
三、社会影响与荣誉
行业地位： 被《财富》杂志评为“最佳CEO”，多次入选全国十大新领军人物。 爱国情怀
学术贡献：发起成立硅谷中国工程师协会，促进中美技术交流与合作。
四、个人背景
家庭影响：出生于北京爱国世家，曾祖父为清末留学生，父亲是电化学专家，家族基因孕育其科研与报国情怀。
年龄争议：常以“38岁”形象自嘲，象征不屈奋斗精神。
五、当前职务
2021年12月19日前任中微半导体董事长、总经理，2024年卸任。
尹志尧凭借卓越技术实力与爱国情怀，书写了从硅谷到中国半导体行业的传奇篇章，其事迹激励了无数科技工作者。